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Struers TargetSystem專(zhuān)為研發(fā)和失效分析實(shí)驗(yàn)室的目標(biāo)試樣制備和其它高精度的試樣制備而設(shè)計(jì)制造，，系統(tǒng)精度為+-5微米。主要應(yīng)用于包括微電子元器件、分層剝離和FA等需要進(jìn)行微裂紋檢查的領(lǐng)域。系統(tǒng)的各種組件（TargetMaster，TargetDoser，金相樣品自動(dòng)研磨機(jī)，TargetX，，TargetZ）可根據(jù)需要采用若干種方式隨意組合。

- 自動(dòng)制備、清洗和測(cè)量

- 已鑲/未鑲試樣的橫斷面切割與平行拋光 
- 可見(jiàn)（外部）和隱藏（內(nèi)部）目標(biāo)的實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn) 
- 機(jī)載激光測(cè)量系統(tǒng)*，金相拋光研磨機(jī)，精度為±5微米 
- 智能制備系統(tǒng)（IPS） 
- IPS數(shù)據(jù)庫(kù)，全自動(dòng)金相拋光研磨機(jī)，可提供研磨和拋光表面去除率自動(dòng)重算去除率和時(shí)間 
- 操作十分簡(jiǎn)便

您的受益 
- 目標(biāo)試樣不丟失 
- 大幅縮短制備時(shí)間 (< 30分鐘) 
- 對(duì)操作員技能無(wú)依賴(lài)性 
- 完全可再現(xiàn)性

TargetMaster：小型拋光機(jī)，金相研磨機(jī)價(jià)格，適用于對(duì)精度要求極高的FA實(shí)驗(yàn)室�？梢詥为�(dú)使用，或者與兩種測(cè)量站TargetZ和TargetX之一配合使用。TargetMaster自動(dòng)拋光至目標(biāo)值，金相研磨機(jī)，誤差僅數(shù)微米。 

TargetX：隱藏（內(nèi)部）目標(biāo)用測(cè)量站。站安裝在用戶(hù)X射線(xiàn)（不包含）中，金相切片研磨機(jī)，通過(guò)外部控制臺(tái)操作，金相試樣自動(dòng)研磨機(jī)，允許進(jìn)行實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn)和測(cè)量。對(duì)于可見(jiàn)（外部）目標(biāo)的試樣，，采用TargetZ。

TargetZ：可見(jiàn)（外部）目標(biāo)試樣用測(cè)量站。